X線反射鏡を精密に測定する装置です。そのX線反射鏡はEUVL(極端紫外線)を用いたレジストリ膜露光装置に使用します。

このX線鏡を製造する段階において、反射波面を評価するためには実際に使用する波長の光をあて、収差を測定する必要があります。

本装置は２つのピンホールと、回折格子をもち、その間に測定するX線ミラーを置きます。X線を照射すると、CCDカメラに干渉パターンとして投影される。この干渉縞を分析することにより、鏡の精度を0.5nm以下の精度で測定することができます。